南韓三星與荷蘭 ASML 合作開發次世代半導體 12 吋光罩技術

三星電子（Samsung Electronics）宣佈，已加入由荷蘭裝置製造商 ASML 主導的聯盟，共同開發次世代半導體製造技術。此次合作的核心目標是推動 12 吋光罩（photomask）技術，以取代沿用數十年的舊有 6 吋格式，目的是提升晶圓廠生產力並降低晶片製造成本。雙方同時宣佈擴大在高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影技術上的策略合作。三星計畫於 2028 年率先將這項技術應用於動態隨機存取記憶體（DRAM）的量產，這將是業界首例。雙方表示，基於多年成功的合作基礎，將共同加速開發與部署相關技術，以滿足先進半導體製造對效能與效率日益增加的需求。